в России ведется разработка литографов сразу в четырех различных университетах и научно-исследовательских центрах по 4-м отдельным программам:
1. В Зеленограде на ЗНТЦ планируют выпускать 65-350 нм литографы. Опытный образец 350 нм ожидается в 2024 году, серийное производство планируют запустить к 2025 году. Первый опытный образец литографа 130 нм планируется выпустить в 2025, серийное производство с 2026, потом его модернизируют до 65 нм.
https://www.zelenogr…c-kovalev/
...
2. В Зеленограде на МИЭТ совместно с "Микроном" ведется разработка установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм.
Представители проекта заявляют, что основная задача выполнения НИР — экспериментальная проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии. На первом этапе проекта планируется разработать, изготовить и протестировать макеты МЭМС динамической маски в двух вариантах.
На первом этапе будут выработаны и обоснованы параметры ключевых узлов системы: источник рентгеновского излучения; оптическая система, включая МЭМС динамической маски; вакуумная система; система совмещения и позиционирования. Разработка будет вестись на базе как действующих, так и запускаемых в стране синхротронов. При помощи этих технологий ученые надеются обрабатывать полупроводниковые пластины с проектными нормами 28 нм, 16 нм и ниже.
https://habr.com/ru/…es/653749/
...
3. В Нижнем Новгороде на ИПФ/ИФМ РАН разрабатывается 7-28 нм литограф. Будет три этапа: 2024-ый год альфа машина (фактически перед нами будет готовый литограф, способный проводить полный цикл печати чипов по 7-нм техпроцессу), 2026-ой год бета машина (системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы, установку уже можно будет применять на масштабных производствах), 2028-ой год финальная (промышленная) версия.
По словам разработчиков, уже сегодня демонстратор превосходит все существующие аналоги ASML. Основной плюс состоит в том, что источник излучения более компактный, а выход годных чипов будет намного выше того, что предлагает голландский сканер. Таким образом можно будет говорить о дешевизне конечных продуктов, а также менее высокой стоимости самого оборудования. Предполагается, что отечественный литограф окажется до двух раз эффективнее западных аналогов.
https://www.cnews.ru…razrabotka
...
4. В Санкт-Петербурге специалисты СПбПУ разрабатывают литографический комплекс из установок для безмасочного получения изображения на подложке и плазмохимического травления кремния:
https://www.cnews.ru…suverennyj
_____________________________
Если рассмотреть имеющееся на российских фабриках литографическое оборудование, то оно пока по большей части импортное и позволяет выпускать чипы по техпроцессу до 65-нм включительно. Например, процессор для военных "Комдив-64" 1890ВМ108 и микроконтроллер "Комдив-МК" производятся в РФ по техпроцессу 65 нм:
https://www.niisi.ru/devel.htm
https://trashbox.ru/…ors-komdiv
Плюс строится новый завод с техпроцессом 28-нм (скорее всего, под уже выпускаемые новейшие китайские литографы):
https://www.cnews.ru…roitelstvo
https://www.cnews.ru…obstvennyh
28 нм - это весьма прилично, уровень МЦСТ "Эльбрус-8СВ", Байкал Электроникс "Байкал-Т1" и "Байкал-М", Мультиклет "MultiClet S1", Элвис "Скиф" и "ELISE", НИИСИ 1890ВМ118 и др.
имха![Smile :) :)](https://cdn.jsdelivr.net/gh/twitter/twemoji@14.0.2/assets/72x72/1f642.png)
1. В Зеленограде на ЗНТЦ планируют выпускать 65-350 нм литографы. Опытный образец 350 нм ожидается в 2024 году, серийное производство планируют запустить к 2025 году. Первый опытный образец литографа 130 нм планируется выпустить в 2025, серийное производство с 2026, потом его модернизируют до 65 нм.
https://www.zelenogr…c-kovalev/
...
2. В Зеленограде на МИЭТ совместно с "Микроном" ведется разработка установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм.
Представители проекта заявляют, что основная задача выполнения НИР — экспериментальная проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии. На первом этапе проекта планируется разработать, изготовить и протестировать макеты МЭМС динамической маски в двух вариантах.
На первом этапе будут выработаны и обоснованы параметры ключевых узлов системы: источник рентгеновского излучения; оптическая система, включая МЭМС динамической маски; вакуумная система; система совмещения и позиционирования. Разработка будет вестись на базе как действующих, так и запускаемых в стране синхротронов. При помощи этих технологий ученые надеются обрабатывать полупроводниковые пластины с проектными нормами 28 нм, 16 нм и ниже.
https://habr.com/ru/…es/653749/
...
3. В Нижнем Новгороде на ИПФ/ИФМ РАН разрабатывается 7-28 нм литограф. Будет три этапа: 2024-ый год альфа машина (фактически перед нами будет готовый литограф, способный проводить полный цикл печати чипов по 7-нм техпроцессу), 2026-ой год бета машина (системы будут улучшены и усложнены, увеличится разрешение, повысится производительность, многие операции будут роботизированы, установку уже можно будет применять на масштабных производствах), 2028-ой год финальная (промышленная) версия.
По словам разработчиков, уже сегодня демонстратор превосходит все существующие аналоги ASML. Основной плюс состоит в том, что источник излучения более компактный, а выход годных чипов будет намного выше того, что предлагает голландский сканер. Таким образом можно будет говорить о дешевизне конечных продуктов, а также менее высокой стоимости самого оборудования. Предполагается, что отечественный литограф окажется до двух раз эффективнее западных аналогов.
https://www.cnews.ru…razrabotka
...
4. В Санкт-Петербурге специалисты СПбПУ разрабатывают литографический комплекс из установок для безмасочного получения изображения на подложке и плазмохимического травления кремния:
https://www.cnews.ru…suverennyj
![Крутой Крутой](https://glav.su/themes/glav/images/smileys/cool.gif)
![Нравится Нравится](https://glav.su/themes/glav/images/smileys/good.gif)
_____________________________
Если рассмотреть имеющееся на российских фабриках литографическое оборудование, то оно пока по большей части импортное и позволяет выпускать чипы по техпроцессу до 65-нм включительно. Например, процессор для военных "Комдив-64" 1890ВМ108 и микроконтроллер "Комдив-МК" производятся в РФ по техпроцессу 65 нм:
https://www.niisi.ru/devel.htm
https://trashbox.ru/…ors-komdiv
Плюс строится новый завод с техпроцессом 28-нм (скорее всего, под уже выпускаемые новейшие китайские литографы):
https://www.cnews.ru…roitelstvo
https://www.cnews.ru…obstvennyh
28 нм - это весьма прилично, уровень МЦСТ "Эльбрус-8СВ", Байкал Электроникс "Байкал-Т1" и "Байкал-М", Мультиклет "MultiClet S1", Элвис "Скиф" и "ELISE", НИИСИ 1890ВМ118 и др.
имха
![Smile :) :)](https://cdn.jsdelivr.net/gh/twitter/twemoji@14.0.2/assets/72x72/1f642.png)